等离子体去胶机

RIE等离子体去胶机

PE-200RIE(反应离子刻蚀)等离子体去胶机是一种在半导体制造、微电子加工及相关科研领域中非常重要的设备。它利用反应离子刻蚀技术,通过物理轰击和化学反应的综合作用,能有效地去除光刻胶、残留聚合物以及其他有机物,并能进行一些材料的刻蚀和表面处理。
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