ICP CVD电感耦合等离子化学气相沉积设备（双腔）

ICP CVD电感耦合等离子化学气相沉积设备是一种先进的材料制备技术，它结合了电感耦合等离子体和化学气相沉积的优点。该设备通过电感耦合方式激发等离子体，产生大量的活性离子和自由基，这些活性粒子在基体表面发生化学反应，从而生成所需的薄膜或涂层。
       ICP CVD设备的主要组成部分包括反应腔、真空系统、气路系统、射频电源和控制系统等。其中，反应腔是发生化学反应的场所，真空系统用于控制反应腔内的气体压力和成分，气路系统负责向反应腔内输送反应气体，射频电源则提供激发等离子体的能量，控制系统则负责整个设备的运行和监控。