近年,等离子清洗技术已成为新能源、汽车制造、半导体等多行业的核心清洗工艺,应用日益广泛,更是精密清洗领域的关键技术,为高端制造革新注入动力。
一、核心技术解析
该技术属环保工艺,借助电能与低温等离子体特性,规避了湿式清洗的安全隐患与废液问题。其采用无添加式清洗,依托等离子体“活化作用”,结合多学科技术精准除污,且不损伤材料特性。
同时,它具备高智能化,可精准控时、记忆参数,适配半导体、金属、高分子等各类基材,能满足整体、局部及复杂结构件的精密清洗需求。
二、相较传统工艺的核心优势
相较于传统湿法清洗,其优势集中在:基材适配广,覆盖多类材质;无需二次干燥,提升产效;无残留且支持定制化;活化表面增强附着力;可清洗复杂结构件(真空式更优);适配敏感基材;零污染更安全;操作便捷、成本更低。
三、两种机型差异与适配
关于等离子清洗的辐射担忧无需过度,其辐射量极低且安全。真空式为全封闭设计,操作便捷;大气式可联机生产,适配规则中小型产品。
两者各有侧重,方瑞科技可根据客户产品与需求,定制专属等离子清洗解决方案,助力企业升级工艺。






